සම්බන්ධකවල සම්බන්ධතා සම්බාධනයේ අගයට බලපාන සාධක

සම්බන්ධක ස්පර්ශයේ මතුපිට සුමට පෙනුමක් ඇති බව වෘත්තීය කාර්මික ශිල්පියෙකු දැන සිටිය යුතුය, නමුත් මයික්‍රෝන 5-10 ක උණ්ඩයක් තවමත් අන්වීක්ෂයක් යටතේ නිරීක්ෂණය කළ හැකිය.ඇත්ත වශයෙන්ම, වායුගෝලයේ ඇත්ත වශයෙන්ම පිරිසිදු ලෝහ මතුපිටක් වැනි දෙයක් නොමැති අතර ඉතා පිරිසිදු ලෝහ මතුපිටක් පවා වායුගෝලයට නිරාවරණය වූ විට ඉක්මනින් මයික්‍රෝන කිහිපයක ආරම්භක ඔක්සයිඩ් පටලයක් සාදනු ඇත.උදාහරණයක් ලෙස, තඹ විනාඩි 2-3 ක්, නිකල් විනාඩි 30 ක් සහ ඇලුමිනියම් තත්පර 2-3 ක් පමණක් එහි මතුපිට මයික්රෝන 2 ක පමණ ඝනකමකින් යුත් ඔක්සයිඩ් පටලයක් සෑදීමට ගතවේ.විශේෂයෙන් ස්ථායී වටිනා ලෝහ රත්රන් පවා එහි ඉහළ මතුපිට ශක්තිය නිසා එහි මතුපිට කාබනික වායු අවශෝෂණ පටල තට්ටුවක් සාදනු ඇත.සම්බන්ධක ස්පර්ශක ප්රතිරෝධක සංරචක වලට බෙදිය හැකිය: සාන්ද්ර ප්රතිරෝධය, චිත්රපට ප්රතිරෝධය, සන්නායක ප්රතිරෝධය.සාමාන්යයෙන් කථා කිරීම, සම්බන්ධක සම්බන්ධතා ප්රතිරෝධක පරීක්ෂණයට බලපාන ප්රධාන සාධක පහත පරිදි වේ.

1. ධනාත්මක ආතතිය

ස්පර්ශයක ධනාත්මක පීඩනය යනු පෘෂ්ඨයන් එකිනෙකට සම්බන්ධ වන අතර ස්පර්ශක පෘෂ්ඨයට ලම්බකව යොදන බලයයි.ධනාත්මක පීඩනය වැඩිවීමත් සමග, ස්පර්ශක ක්ෂුද්ර ලක්ෂ්ය සංඛ්යාව සහ ප්රදේශය ක්රමයෙන් වැඩි වන අතර, ස්පර්ශක ක්ෂුද්ර ලක්ෂ්යයන් ප්රත්යාස්ථ විරූපණයෙන් ප්ලාස්ටික් විරූපණයට මාරු වේ.සාන්ද්‍රණ ප්‍රතිරෝධය අඩු වන විට ස්පර්ශ ප්‍රතිරෝධය අඩු වේ.ධනාත්මක ස්පර්ශක පීඩනය ප්රධාන වශයෙන් රඳා පවතින්නේ ස්පර්ශයේ ජ්යාමිතිය සහ ද්රව්යමය ගුණාංග මතය.

2. මතුපිට තත්ත්වය

ස්පර්ශයේ මතුපිට යාන්ත්‍රික ඇලවීම සහ ස්පර්ශයේ මතුපිට දූවිලි, රෝසින් සහ තෙල් තැන්පත් වීම මගින් සාදන ලද ලිහිල් මතුපිට පටලයකි.පෘෂ්ඨීය පටලයේ මෙම ස්තරය ස්පර්ශක ප්‍රදේශය අඩු කරන, ස්පර්ශක ප්‍රතිරෝධය වැඩි කරන සහ අතිශයින් අස්ථායී වන අංශු ද්‍රව්‍ය හේතුවෙන් ස්පර්ශක පෘෂ්ඨයේ ක්ෂුද්‍ර වළවල් තුළ තැන්පත් කිරීම පහසුය.දෙවැන්න භෞතික අවශෝෂණ හා රසායනික අවශෝෂණ මගින් සාදන ලද දූෂණ පටලයයි.ලෝහ මතුපිට ප්රධාන වශයෙන් රසායනික අවශෝෂණ වේ, එය භෞතික අවශෝෂණයෙන් පසු ඉලෙක්ට්රෝන සංක්රමණය සමඟ නිපදවනු ලැබේ.එබැවින්, අභ්‍යවකාශ විද්‍යුත් සම්බන්ධක වැනි ඉහළ විශ්වසනීය අවශ්‍යතා ඇති සමහර නිෂ්පාදන සඳහා, පිරිසිදු එකලස් නිෂ්පාදන පරිසර තත්ත්වයන්, පරිපූර්ණ පිරිසිදු කිරීමේ ක්‍රියාවලියක් සහ අවශ්‍ය ව්‍යුහාත්මක මුද්‍රා තැබීමේ පියවර තිබිය යුතු අතර, ඒකක භාවිතය හොඳ ගබඩා කිරීම සහ මෙහෙයුම් පාරිසරික තත්ත්වයන් භාවිතය තිබිය යුතුය.